Some characteristic properties of thermal donor formation in oxygen-containing silicon at 450 °C

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physica status solidi. A, Applied research Applied research, 1984-12, Vol.86 (2), p.K91-K94
Hauptverfasser:	Babich, V. M., Dotsenko, Yu. P., Kovalchuk, V. B.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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