Structural, optical, and electrical properties of Cu-doped ZrO2 films prepared by magnetron co-sputtering

Copper （Cu）-doped ZrO2 （CZO） films with different Cu content （0 at.%- 8.07 at.%） are successfully deposited on Si （100） substrates by direct current （DC） and radio frequency （RF） magnetron co-sputtering. The influences of Cu content on structural, morphological, optical and electrical properties of...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	中国物理B：英文版 2017-10, Vol.26 (10), p.384-388
1. Verfasser:	姚念琦 刘智超 顾广瑞 吴宝嘉
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Si（100） 光学带隙 扫描电子显微镜 氧化锆薄膜 电学性能 磁控溅射 结构形态 铜掺杂
Online-Zugang:	Volltext
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