双靶磁控溅射沉积Cu-W薄膜组织结构特征及其演变

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	中国有色金属学报：英文版 2012, Vol.22 (11), p.2700-2706
1. Verfasser:	周灵平 汪明朴 彭坤 朱家俊 傅臻 李周
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cu-W薄膜 Vegard规则 固溶度 层状结构 溅射沉积 非晶相
Online-Zugang:	Volltext
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