Effect of Deposition Temperature on Dynamics and Mechanism of Deposition for Si-B-C Ceramic from BCla/SiCH3Cl3/H2 Precursor

The deposition rate, phase, chemical composition and microstructure of deposits were determined from 950 to 1100 ℃. With increasing temperature, the deposition rate increases, and the morphology changes from smooth to coarse, meanwhile, the concentration of silicon increases while that of boron decr...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	材料科学技术学报：英文版 2012, Vol.28 (9), p.793-798
1. Verfasser:	Xinzhang Zuo Litong Zhang Yongsheng Liu Siwei Li Laifei Cheng
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	动力学 化学成分 形态学变化 微观结构 机理 沉积温度 沉积速率 陶瓷
Online-Zugang:	Volltext
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