Rup_2P表面敏化TiO_2基复合薄膜光致界面电荷转移
采用离子束溅射技术制备出TiO2/ITO、Zn2＋掺杂的TiO2（TiO2-Zn）/ITO和TiO2/ZnO/ITO薄膜,采用表面敏化技术和旋转涂膜法,制备出（1,10-邻菲咯啉）2-2-（2-吡啶基）苯咪唑钌混配配合物（Rup2P）表面敏化的TiO2基复合薄膜Rup2P/TiO2/ITO、Rup2P/TiO2-Zn/ITO和Rup2P/TiO2/ZnO/ITO.表面光电压谱（SPS）结果发现：敏化后的TiO2基薄膜在可见区（400-600nm）产生SPS响应;TiO2基薄膜的能带结构不同,其在400-600nm和350nm处的SPS响应的峰高比不同.利用电场诱导表面光电压谱（EFISPS）,...
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| Veröffentlicht in: | Wuli huaxue xuebao 2010 (6), p.1617-1622 |
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| Format: | Artikel |
| Sprache: | chi |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext |
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| container_end_page | 1622 |
|---|---|
| container_issue | 6 |
| container_start_page | 1617 |
| container_title | Wuli huaxue xuebao |
| container_volume | |
| creator | 翟晓辉 赵俊岩 巢晖 曹亚安 |
| description | 采用离子束溅射技术制备出TiO2/ITO、Zn2＋掺杂的TiO2（TiO2-Zn）/ITO和TiO2/ZnO/ITO薄膜,采用表面敏化技术和旋转涂膜法,制备出（1,10-邻菲咯啉）2-2-（2-吡啶基）苯咪唑钌混配配合物（Rup2P）表面敏化的TiO2基复合薄膜Rup2P/TiO2/ITO、Rup2P/TiO2-Zn/ITO和Rup2P/TiO2/ZnO/ITO.表面光电压谱（SPS）结果发现：敏化后的TiO2基薄膜在可见区（400-600nm）产生SPS响应;TiO2基薄膜的能带结构不同,其在400-600nm和350nm处的SPS响应的峰高比不同.利用电场诱导表面光电压谱（EFISPS）,测定TiO2基薄膜和表面敏化TiO2基复合薄膜各种物理参数,并确定其能带结构.分析可知,表面敏化TiO2基复合薄膜在400-600nm的SPS响应峰主要源于Rup2P分子的中心离子Ru4d能级到配体1,10-邻菲咯啉π＊1和2-（2-吡啶基）苯咪唑π＊2能级的跃迁;TiO2中Zn2＋掺杂能级有利于Ru4d能级到配体π＊1和π＊2跃迁的光生电子向TiO2-Zn导带的注入;TiO2/ZnO异质结构有利于光生电子向ITO表面的转移,从而导致可见光（400-600nm）SPS响应增强以及光电转换效率的提高. |
| format | Article |
| fullrecord | <record><control><sourceid>chongqing</sourceid><recordid>TN_cdi_chongqing_backfile_34164230</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><cqvip_id>34164230</cqvip_id><sourcerecordid>34164230</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-chongqing_backfile_341642303</originalsourceid><addsrcrecordid>eNpjYeA0NDAw0DWzMLTgYOAtLs5MMjAwMjK1MDQ25WSwCyotiDcKeLFwxcu5i55N7X_aMy0k0z_e6On8XU-X9D6d0PFiWsuLtjlPWztftG95PrUHqOr5lK0vere_2Lvm-fLdPAysaYk5xam8UJqbQcnNNcTZQzc5Iz8vvTAzLz0-KTE5Oy0zJzXe2MTQzMTI2MCYKEUA1pVIEQ</addsrcrecordid><sourcetype>Publisher</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>article</recordtype></control><display><type>article</type><title>Rup_2P表面敏化TiO_2基复合薄膜光致界面电荷转移</title><source>IngentaConnect Free/Open Access Journals</source><source>EZB-FREE-00999 freely available EZB journals</source><creator>翟晓辉 赵俊岩 巢晖 曹亚安</creator><creatorcontrib>翟晓辉 赵俊岩 巢晖 曹亚安</creatorcontrib><description>采用离子束溅射技术制备出TiO2/ITO、Zn2＋掺杂的TiO2（TiO2-Zn）/ITO和TiO2/ZnO/ITO薄膜,采用表面敏化技术和旋转涂膜法,制备出（1,10-邻菲咯啉）2-2-（2-吡啶基）苯咪唑钌混配配合物（Rup2P）表面敏化的TiO2基复合薄膜Rup2P/TiO2/ITO、Rup2P/TiO2-Zn/ITO和Rup2P/TiO2/ZnO/ITO.表面光电压谱（SPS）结果发现：敏化后的TiO2基薄膜在可见区（400-600nm）产生SPS响应;TiO2基薄膜的能带结构不同,其在400-600nm和350nm处的SPS响应的峰高比不同.利用电场诱导表面光电压谱（EFISPS）,测定TiO2基薄膜和表面敏化TiO2基复合薄膜各种物理参数,并确定其能带结构.分析可知,表面敏化TiO2基复合薄膜在400-600nm的SPS响应峰主要源于Rup2P分子的中心离子Ru4d能级到配体1,10-邻菲咯啉π＊1和2-（2-吡啶基）苯咪唑π＊2能级的跃迁;TiO2中Zn2＋掺杂能级有利于Ru4d能级到配体π＊1和π＊2跃迁的光生电子向TiO2-Zn导带的注入;TiO2/ZnO异质结构有利于光生电子向ITO表面的转移,从而导致可见光（400-600nm）SPS响应增强以及光电转换效率的提高.</description><identifier>ISSN: 1000-6818</identifier><language>chi</language><subject>Rup2P ; TiO2-Zn/ITO ; TiO2/ZnO/ITO ; 光致界面电荷转移 ; 表面敏化</subject><ispartof>Wuli huaxue xuebao, 2010 (6), p.1617-1622</ispartof><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Uhttp://image.cqvip.com/vip1000/qk/92644X/92644X.jpg</thumbnail><link.rule.ids>314,776,780,4010</link.rule.ids></links><search><creatorcontrib>翟晓辉 赵俊岩 巢晖 曹亚安</creatorcontrib><title>Rup_2P表面敏化TiO_2基复合薄膜光致界面电荷转移</title><title>Wuli huaxue xuebao</title><addtitle>Acta Physico-Chimica Sinica</addtitle><description>采用离子束溅射技术制备出TiO2/ITO、Zn2＋掺杂的TiO2（TiO2-Zn）/ITO和TiO2/ZnO/ITO薄膜,采用表面敏化技术和旋转涂膜法,制备出（1,10-邻菲咯啉）2-2-（2-吡啶基）苯咪唑钌混配配合物（Rup2P）表面敏化的TiO2基复合薄膜Rup2P/TiO2/ITO、Rup2P/TiO2-Zn/ITO和Rup2P/TiO2/ZnO/ITO.表面光电压谱（SPS）结果发现：敏化后的TiO2基薄膜在可见区（400-600nm）产生SPS响应;TiO2基薄膜的能带结构不同,其在400-600nm和350nm处的SPS响应的峰高比不同.利用电场诱导表面光电压谱（EFISPS）,测定TiO2基薄膜和表面敏化TiO2基复合薄膜各种物理参数,并确定其能带结构.分析可知,表面敏化TiO2基复合薄膜在400-600nm的SPS响应峰主要源于Rup2P分子的中心离子Ru4d能级到配体1,10-邻菲咯啉π＊1和2-（2-吡啶基）苯咪唑π＊2能级的跃迁;TiO2中Zn2＋掺杂能级有利于Ru4d能级到配体π＊1和π＊2跃迁的光生电子向TiO2-Zn导带的注入;TiO2/ZnO异质结构有利于光生电子向ITO表面的转移,从而导致可见光（400-600nm）SPS响应增强以及光电转换效率的提高.</description><subject>Rup2P</subject><subject>TiO2-Zn/ITO</subject><subject>TiO2/ZnO/ITO</subject><subject>光致界面电荷转移</subject><subject>表面敏化</subject><issn>1000-6818</issn><fulltext>true</fulltext><rsrctype>article</rsrctype><creationdate>2010</creationdate><recordtype>article</recordtype><recordid>eNpjYeA0NDAw0DWzMLTgYOAtLs5MMjAwMjK1MDQ25WSwCyotiDcKeLFwxcu5i55N7X_aMy0k0z_e6On8XU-X9D6d0PFiWsuLtjlPWztftG95PrUHqOr5lK0vere_2Lvm-fLdPAysaYk5xam8UJqbQcnNNcTZQzc5Iz8vvTAzLz0-KTE5Oy0zJzXe2MTQzMTI2MCYKEUA1pVIEQ</recordid><startdate>2010</startdate><enddate>2010</enddate><creator>翟晓辉 赵俊岩 巢晖 曹亚安</creator><scope>2RA</scope><scope>92L</scope><scope>CQIGP</scope><scope>W94</scope><scope>~WA</scope></search><sort><creationdate>2010</creationdate><title>Rup_2P表面敏化TiO_2基复合薄膜光致界面电荷转移</title><author>翟晓辉 赵俊岩 巢晖 曹亚安</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-chongqing_backfile_341642303</frbrgroupid><rsrctype>articles</rsrctype><prefilter>articles</prefilter><language>chi</language><creationdate>2010</creationdate><topic>Rup2P</topic><topic>TiO2-Zn/ITO</topic><topic>TiO2/ZnO/ITO</topic><topic>光致界面电荷转移</topic><topic>表面敏化</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>翟晓辉 赵俊岩 巢晖 曹亚安</creatorcontrib><collection>中文科技期刊数据库</collection><collection>中文科技期刊数据库-CALIS站点</collection><collection>中文科技期刊数据库-7.0平台</collection><collection>中文科技期刊数据库-自然科学</collection><collection>中文科技期刊数据库- 镜像站点</collection><jtitle>Wuli huaxue xuebao</jtitle></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext</fulltext></delivery><addata><au>翟晓辉 赵俊岩 巢晖 曹亚安</au><format>journal</format><genre>article</genre><ristype>JOUR</ristype><atitle>Rup_2P表面敏化TiO_2基复合薄膜光致界面电荷转移</atitle><jtitle>Wuli huaxue xuebao</jtitle><addtitle>Acta Physico-Chimica Sinica</addtitle><date>2010</date><risdate>2010</risdate><issue>6</issue><spage>1617</spage><epage>1622</epage><pages>1617-1622</pages><issn>1000-6818</issn><abstract>采用离子束溅射技术制备出TiO2/ITO、Zn2＋掺杂的TiO2（TiO2-Zn）/ITO和TiO2/ZnO/ITO薄膜,采用表面敏化技术和旋转涂膜法,制备出（1,10-邻菲咯啉）2-2-（2-吡啶基）苯咪唑钌混配配合物（Rup2P）表面敏化的TiO2基复合薄膜Rup2P/TiO2/ITO、Rup2P/TiO2-Zn/ITO和Rup2P/TiO2/ZnO/ITO.表面光电压谱（SPS）结果发现：敏化后的TiO2基薄膜在可见区（400-600nm）产生SPS响应;TiO2基薄膜的能带结构不同,其在400-600nm和350nm处的SPS响应的峰高比不同.利用电场诱导表面光电压谱（EFISPS）,测定TiO2基薄膜和表面敏化TiO2基复合薄膜各种物理参数,并确定其能带结构.分析可知,表面敏化TiO2基复合薄膜在400-600nm的SPS响应峰主要源于Rup2P分子的中心离子Ru4d能级到配体1,10-邻菲咯啉π＊1和2-（2-吡啶基）苯咪唑π＊2能级的跃迁;TiO2中Zn2＋掺杂能级有利于Ru4d能级到配体π＊1和π＊2跃迁的光生电子向TiO2-Zn导带的注入;TiO2/ZnO异质结构有利于光生电子向ITO表面的转移,从而导致可见光（400-600nm）SPS响应增强以及光电转换效率的提高.</abstract></addata></record> |
| fulltext | fulltext |
| identifier | ISSN: 1000-6818 |
| ispartof | Wuli huaxue xuebao, 2010 (6), p.1617-1622 |
| issn | 1000-6818 |
| language | chi |
| recordid | cdi_chongqing_backfile_34164230 |
| source | IngentaConnect Free/Open Access Journals; EZB-FREE-00999 freely available EZB journals |
| subjects | Rup2P TiO2-Zn/ITO TiO2/ZnO/ITO 光致界面电荷转移 表面敏化 |
| title | Rup_2P表面敏化TiO_2基复合薄膜光致界面电荷转移 |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-05T15%3A42%3A57IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-chongqing&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:journal&rft.genre=article&rft.atitle=Rup_2P%E8%A1%A8%E9%9D%A2%E6%95%8F%E5%8C%96TiO_2%E5%9F%BA%E5%A4%8D%E5%90%88%E8%96%84%E8%86%9C%E5%85%89%E8%87%B4%E7%95%8C%E9%9D%A2%E7%94%B5%E8%8D%B7%E8%BD%AC%E7%A7%BB&rft.jtitle=Wuli%20huaxue%20xuebao&rft.au=%E7%BF%9F%E6%99%93%E8%BE%89%20%E8%B5%B5%E4%BF%8A%E5%B2%A9%20%E5%B7%A2%E6%99%96%20%E6%9B%B9%E4%BA%9A%E5%AE%89&rft.date=2010&rft.issue=6&rft.spage=1617&rft.epage=1622&rft.pages=1617-1622&rft.issn=1000-6818&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cchongqing%3E34164230%3C/chongqing%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rft_cqvip_id=34164230&rfr_iscdi=true |