In Situ Infrared Spectroscopic Study of Atomic Layer-Deposited TiO2 Thin Films by Nonaqueous Routes

The mechanisms of growth of TiO2 thin films by atomic layer deposition (ALD) using either acetic acid or ozone as the oxygen source and titanium isopropoxide as the metal source are investigated by in situ Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and ex situ X-ray photoelectron spectroscopy. T...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Chemistry of materials 2013-05, Vol.25 (9), p.1706-1712
Hauptverfasser:	Bernal Ramos, Karla, Clavel, Guylhaine, Marichy, Catherine, Cabrera, Wilfredo, Pinna, Nicola, Chabal, Yves J
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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