Anisotropic Atomic Layer Deposition Profiles of TiO2 in Hierarchical Silica Material with Multiple Porosity

Anisotropic deposition profiles of TiO2 in Zeotile-4 ordered mesoporous silica material are obtained using Atomic Layer Deposition (ALD) involving alternating pulses of tetrakis(dimethylamino) titanium (TDMAT) and water. TiO2 concentration profiles visualized by transmission electron microscopy (TEM...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Chemistry of materials 2012-07, Vol.24 (14), p.2775-2780
Hauptverfasser:	Pulinthanathu Sree, Sreeprasanth, Dendooven, Jolien, Jammaer, Jasper, Masschaele, Kasper, Deduytsche, Davy, D’Haen, Jan, Kirschhock, Christine E. A, Martens, Johan A, Detavernier, Christophe
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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