Synthesis and Characterization of BiFeO3 Thin Films for Multiferroic Applications by Radical Enhanced Atomic Layer Deposition

A radical-enhanced atomic layer deposition (RE-ALD) process is described for the synthesis of BiFeO3. Metalorganic precursors β-diketonate, tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato) iron(III) (Fe(TMHD)3), and Bi(TMHD)3 are coreacted with oxygen radicals (produced by a coaxial microwave cavity...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Chemistry of materials 2015-11, Vol.27 (21), p.7282-7288
Hauptverfasser:	Pham, Calvin D, Chang, Jeffrey, Zurbuchen, Mark A, Chang, Jane P
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Schreiben Sie den ersten Kommentar!