Fitting the Stillinger–Weber potential to amorphous silicon von Vink, R.L.C., Barkema, G.T., van der Weg, W.F., Mousseau, Normand

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Contribution of defects to electronic, structural, and thermodynamic properties of amorphous silicon von Stolk, P. A., Saris, F. W., Berntsen, A. J. M., Weg, W. F. van der, Sealy, L. T., Barklie, R. C., Krötz, G., Müller, G.

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Hot-wire produced atomic hydrogen: effects during and after amorphous-silicon deposition von Brockhoff, A.M, van der Weg, W.F, Habraken, F.H.P.M

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Light scattering coefficients for textured SnO von WALLINGA, J, NILSSON, D, VAN DER WEG, W. F, SCHROPP, R. E. I

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Performance of heterojunction p+ microcrystalline silicon n crystalline silicon solar cells von van Cleef, M. W. M., Rath, J. K., Rubinelli, F. A., van der Werf, C. H. M., Schropp, R. E. I., van der Weg, W. F.

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Deposition of amorphous silicon films by hot-wire chemical vapor deposition von Feenstra, K. F., Schropp, R. E. I., Van der Weg, W. F.

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Hydrogen solubility and network stability in amorphous silicon von Acco, S, Williamson, DL, Stolk, PA, Saris, FW, van den Boogaard MJ, Sinke, WC, van der Weg WF, Roorda, S, Zalm, PC

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Hydrogen in low-pressure chemical-vapor-deposited silicon (oxy)nitride films von HABRAKEN, F. H. P. M, TIJHAAR, R. H. G, VAN DER WEG, W. F, KUIPER, A. E. T, WILLEMSEN, M. F. C

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Deposition rate in modulated radio-frequency silane plasmas von Biebericher, A. C. W., Bezemer, J., van der Weg, W. F., Goedheer, W. J.

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Gas-efficient deposition of device-quality hydrogenated amorphous silicon using low gas flows and power modulated radio-frequency discharges von Biebericher, A. C. W., van der Weg, W. F., Rath, J. K., Akdim, M. R., Goedheer, W. J.

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Mechanism of argon treatment on a growing surface in layer-by-layer deposition of hydrogenated amorphous silicon von Biebericher, A.C.W, van der Weg, W.F, Goedheer, W.J, Rath, J.K

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Positive ions as growth precursors in plasma enhanced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon von Hamers, E. A. G., Bezemer, J., van der Weg, W. F.

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Structure and hydrogen content of stable hot-wire-deposited amorphous silicon von Brockhoff, A. M., Ullersma, E. H. C., Meiling, H., Habraken, F. H. P. M., van der Weg, W. F.

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Nanoclustering of hydrogen in ion-implanted and plasma-grown amorphous silicon von Acco, S., Williamson, D. L., van Sark, W. G. J. H. M., Sinke, W. C., van der Weg, W. F., Polman, A., Roorda, S.

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Separating the effects of hydrogen and bond-angle variation of the amorphous-silicon band gap von BERNTSEN, A. J. M, VAN DER WEG, W. F, STOLK, P. A, SARIS, F. W

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Structural defects and hydrogen clustering in amorphous silicon von Acco, S, Williamson, D.L, Roorda, S, van Sark, W.G.J.H.M, Polman, A, van der Weg, W.F

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Role of ions in PECVD of amorphous silicon von van Sark, W.G.J.H.M., Bezemer, J., van der Weg, W.F.

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Interpretation of the silicon-hydrogen stretching doublet in a -Si:H hydrogenated amorphous silicon von Daey Ouwens, J., Schropp, R. E. I., van der Weg, W. F.

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Ion implantation into amorphous solids von van der Weg, W.F., Berntsen, A.J.M., Saris, F.W., Polman, A.

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Initial growth and surface alloy formation of Pt on Ni(111) von Deckers, S., Offerhaus, S., Habraken, F.H.P.M., van der Weg, W.F.

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