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On the homogeneity of sputter-deposited ITO films Part I. Stress and microstructure
Veröffentlicht in Thin solid films
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The behaviour of permalloy in NH 4F/HF solutions
Veröffentlicht in Corrosion science
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On the homogeneity of sputter-deposited ITO films Part II. Etching behaviour
Veröffentlicht in Thin solid films
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5
The behaviour of permalloy in NH4F/HF solutions
Veröffentlicht in Corrosion science
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The reduction of hydrogen peroxide at silicon in weak alkaline solutions
Veröffentlicht in Electrochimica acta
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The etching of Ti-W in concetrated H2O2 solutions
Veröffentlicht in Thin solid films
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