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Near threshold sputtering of Si and SiO2 in a Cl2 environment
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Laser-induced etching of Si with chlorine
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Time-of-flight study on the thermal etching of Al with Cl2
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Predissociation of specific vibrational states in CH3I upon excitation around 193.3 nm
Veröffentlicht in Chemical physics
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Time-of-Flight Study on the Thermal Etching of Aluminum With Cl sub 2
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Time-of-Flight Study on the Thermal Etching of Aluminum With Cl2
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Time-of-flight study on the thermal etching of Al with Cl sub(2)
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Critical current as a function of temperature in thin YBa2Cu3O7−δ films
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Properties of Bi-Sr-Ca-Cu oxide films produced by laser ablation deposition
Veröffentlicht in Physica. C, Superconductivity
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