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Actinometry of O, N and F atoms
Veröffentlicht in Journal of physics. D, Applied physics
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“Virtual IED sensor” at an rf-biased electrode in low-pressure plasma
Veröffentlicht in Physics of plasmas
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Sputtering of amorphous Si by low-energy Ar+, Kr+, and Xe+ ions
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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The mechanism of low-k SiOCH film modification by oxygen atoms
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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