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    Structure and properties of high power impulse magnetron sputtering and DC magnetron sputtering CrN and TiN films deposited in an industrial scale unit

    Structure and properties of high power impulse magnetron sputtering and DC magnetron sputtering CrN and TiN films deposited in an industrial scale unit von Paulitsch, J., Schenkel, M., Zufraß, Th, Mayrhofer, P.H., Münz, W.-D.

    Veröffentlicht in Thin solid films

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