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Effect of PECVD SiNx/SiOyNx-Si interface property on surface passivation of silicon wafer
Veröffentlicht in 中国物理B:英文版
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Excellent Passivation of p-Type Si Surface by Sol-Gel Al2O3 Films
Veröffentlicht in Chinese physics letters
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Influence of Pressure on SiN x :H Film by LF-PECVD
Veröffentlicht in Chinese journal of chemical physics
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Novel Additive for Alkaline Texturing of Mono-Crystalline Silicon
Veröffentlicht in Advanced materials research
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