Treffer 1 - 2 von 2 für Suche 'Zeininger, Michalea', Suchdauer: 0,31s Treffer weiter einschränken
  1. 1
    Line edge roughness investigation on chemically amplified resist materials with masked helium ion beam lithography

    Line edge roughness investigation on chemically amplified resist materials with masked helium ion beam lithography von EDER-KAPL, Stefan, LOESCHNER, Hans, ZEININGER, Michalea, FALLMANN, Wolfgang, KIRCH, Oliver, PATSIS, George P, CONSTANTOUDIS, V, GOGOLIDES, Evangelos

    Veröffentlicht in Microelectronic engineering

    Volltext
    Artikel

    Zu den Favoriten
    Gespeichert in:
  2. 2
    Line edge roughness investigation on chemically amplified resist materials with masked helium ion beam lithography

    Line edge roughness investigation on chemically amplified resist materials with masked helium ion beam lithography von Eder-Kapl, Stefan, Loeschner, Hans, Zeininger, Michalea, Fallmann, Wolfgang, Kirch, Oliver, Patsis, George P., Constantoudis, V., Gogolides, Evangelos

    Veröffentlicht in Microelectronic engineering

    Volltext
    Artikel

    Zu den Favoriten
    Gespeichert in:

Suchwerkzeuge: