Suchergebnisse - ZAVECZ, TERRENCE E*

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A comprehensive test sequence for the electron beam exposure system : Terrence E. Zavecz. Solid St. Technol., 106 (February 1982)

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A comprehensive sequence for the electron beam exposure system: Terrence E Zavecz Solid St. Technol. 106 (February 1982)

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A comprehensive sequence for the electron beam exposure system: Terrence E. Zavecz Solid St. Technol., 106 (February 1982)

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Interposer element for photomasks in projection printer von ELLINGTON, IV, THOMAS S, BANKS, EDWARD L, ZAVECZ, TERRENCE E

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FOCAL PLANE ADJUSTED PHOTOMASK AND METHODS OF PROJECTING IMAGES ONTO PHOTOSENSITIZED WORKPIECE SURFACES von ELLINGTON, THOMAS S., IV, ZAVECZ, TERRENCE E, BANKS, EDWARD L

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Focal plane adjusted photomask and methods of projecting images onto photosensitized workpiece surfaces von ELLINGTON, IV, THOMAS S, BANKS, EDWARD L, ZAVECZ, TERRENCE E

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FOCAL PLANE ADJUSTED PHOTOMASK AND METHODS OF PROJECTING IMAGES ONTO PHOTOSENSITIZED WORKPIECE SURFACES von BANKS, EDWARD, LAWRENCE, ELLINGTON, THOMAS, SETTLE, IV, ZAVECZ, TERRENCE, EDWARD

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FOCAL PLANE ADJUSTED PHOTOMASK AND METHODS OF PROJECTING IMAGES ONTO PHOTOSENSITIZED WORKPIECE SURFACES von BANKS, EDWARD, LAWRENCE, ELLINGTON, THOMAS, SETTLE, IV, ZAVECZ, TERRENCE, EDWARD

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FOCAL PLANE ADJUSTED PHOTOMASK AND METHODS OF PROJECTING IMAGES ONTO PHOTOSENSITIZED WORKPIECE SURFACES von BANKS, EDWARD, LAWRENCE, ELLINGTON, THOMAS, SETTLE, IV, ZAVECZ, TERRENCE, EDWARD

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Apparatus for preforming measurement of a dimension of a test mark for semiconductor processing von Grodnensky, Ilya, Suwa, Kyoichi, Ushida, Kazuo, Johnson, Eric R

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Method for use of a critical dimensional test structure von Grodnensky, Ilya, Suwa, Kyoichi, Ushida, Kazuo, Johnson, Eric R

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Correcting substrate for charged particle beam lithography apparatus von Tsuruta, Kaoru, Kamikubo, Takashi, Nishimura, Rieko, Yoshitake, Shusuke, Tamamushi, Shuichi

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Device manufacturing method and computer program product von Kiers, Antoine Gaston Marie, Quaedackers, Johannes Anna

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Method and apparatus for performing field-to-field compensation von Bode, Christopher A, Hewett, Joyce S. Oey

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Interposer element for photomasks in projection printer von ELLINGTON, IV, THOMAS S, BANKS, EDWARD L, ZAVECZ, TERRENCE E

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Focal plane adjusted photomask and methods of projecting images onto photosensitized workpiece surfaces von ELLINGTON, IV, THOMAS S, BANKS, EDWARD L, ZAVECZ, TERRENCE E

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Apparatus for preforming measurement of a dimension of a test mark for semiconductor processing von Grodnensky, Ilya, Suwa, Kyoichi, Ushida, Kazuo, Johnson, Eric R

Method for use of a critical dimensional test structure von Grodnensky, Ilya, Suwa, Kyoichi, Ushida, Kazuo, Johnson, Eric R

Correcting substrate for charged particle beam lithography apparatus von Tsuruta, Kaoru, Kamikubo, Takashi, Nishimura, Rieko, Yoshitake, Shusuke, Tamamushi, Shuichi

Device manufacturing method and computer program product von Kiers, Antoine Gaston Marie, Quaedackers, Johannes Anna

Method and apparatus for performing field-to-field compensation von Bode, Christopher A, Hewett, Joyce S. Oey

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