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A theory of plasma-assisted chemical vapor transport processes
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Theory of plasma chemical transport etching of gold in a chlorine plasma
Veröffentlicht in Thin solid films
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ELECTRON TEMPERATURE AND DENSITY IN ARGON ION LASER DISCHARGES
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Plasma thinning of silicon-on-insulator bonded wafers
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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NEW VISIBLE CW LASER LINES IN SINGLY-IONIZED CHLORINE
Veröffentlicht in Applied physics letters
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New Technique for the Measurement of Fluorescent Lifetime
Veröffentlicht in Review of scientific instruments
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QUASI-CW, HIGH NUMERICAL APERTURE, INDUCTIVELY EXCITED ION LASER
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Laser oscillation at 1.06 microns in He-Ne
Veröffentlicht in Proceedings of the IEEE
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