Suchergebnisse - YunHyuck Ji | OPAC THWS

1

CMOS integration of high-k/metal gate transistors in diffusion and gate replacement (D&GR) scheme for dynamic random access memory peripheral circuits von Litta, Eugenio Dentoni, Ritzenthaler, Romain, Schram, Tom, Spessot, Alessio, O Sullivan, Barry, Machkaoutsan, Vladimir, Fazan, Pierre, Ji, Yunhyuck, Mannaert, Geert, Lorant, Christophe, Sebaai, Farid, Thiam, Arame, Ercken, Monique, Demuynck, Steven, Horiguchi, Naoto

Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics

Volltext
Artikel

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
2

Method for fabricating a semiconductor device von Ji, Yunhyuck

Volltext bestellen

Patent

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
3

Method for fabricating a semiconductor device von Ji, Yunhyuck

Volltext bestellen

Patent

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
4

The study of flat-band voltage shift using arsenic ion-implantation with High-k/Metal Inserted Poly Si gate stacks von BeomYong Kim, YunHyuck Ji, SeungMi Lee, BongSeok Jeon, KeeJeung Lee, Kwon Hong, SungKi Park

Volltext
Tagungsbericht

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
5

METHOD FOR FABRICATING A SEMICONDUCTOR DEVICE von JI, Yunhyuck

Volltext bestellen

Patent

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
6

METHOD FOR FABRICATING A SEMICONDUCTOR DEVICE von JI, Yunhyuck

Volltext bestellen

Patent

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
7

Method for fabricating a semiconductor device von JI, YUNHYUCK

Volltext bestellen

Patent

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in: