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Spatial distributions of trapping centers in HfO2∕SiO2 gate stacks
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Multibillion packet lookup for next generation networks
Veröffentlicht in Computers & electrical engineering
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Mobility evaluation in transistors with charge-trapping gate dielectrics
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Effects of ALD HfO2 thickness on charge trapping and mobility
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Interfacial Layer-Induced Mobility Degradation in High- k Transistors
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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High-strength, ultra-thin and fiber-reinforced pHEMA artificial skin
Veröffentlicht in Biomaterials
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High-k gate stacks for planar, scaled CMOS integrated circuits
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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In Search of Biologic Correlates for Liver Texture on Portal-Phase CT
Veröffentlicht in Academic radiology
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