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    Analysis of plasma etching resistance for commercial quartz glasses used in semiconductor apparatus in fluorocarbon plasma

    Analysis of plasma etching resistance for commercial quartz glasses used in semiconductor apparatus in fluorocarbon plasma von Choi, Jae Ho, Yoon, JiSob, Jung, YoonSung, Min, Kyung Won, Im, Won Bin, Kim, Hyeong-Jun

    Veröffentlicht in Materials chemistry and physics

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