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    Dependence of the C49–C54 TiSi2 phase transition temperature on film thickness and Si substrate orientation

    Dependence of the C49–C54 TiSi2 phase transition temperature on film thickness and Si substrate orientation von Jeon, Hyeongtag, Yoon, Gangjoong, Nemanich, R.J

    Veröffentlicht in Thin solid films

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