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CORROSION RESISTANCE ELECTROSTATIC CHUCK
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YUU JIA SUU
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IMPROVED TYPE FIXATION FOCUS RING FOR PLASMA REACTOR
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YUU-JIA SUU
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GAS DISPERSION BOARD FOR SEMICONDUCTOR WAFER TREATING DEVICEWITH ARCING PREVENTION MEANS
von
YUU JIA SUU
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CLEANING PROCESS OF ELECTROSTATIC CHUCK IN PLASMA REACTOR
von
YUU JIA SUU
,
RICHIYAADO MUU
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5
PLASMA REACTOR IN WHICH PLASMA HOMOGENEITY IS ENHANCED BY ADDITION OF GAS, REDUCTION OF CHAMBER DIAMETER AND REDUCTIONOF RF WAFER PEDESTAL DIAMETER
von
YUU JIA SUU
,
GURAHAMU DABURIYUU HIRUZU
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6
ELECTROSTATIC CHUCK FOR MAGNETIC FLUX PROCESSING
von
YUU JIA SUU
,
CHIYANDARA DEISUPANDEI
,
JIYON EFU KIYAMERON
,
SHIYAMOUIRU SHIYAMOUIRIAN
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7
IMPROVEMENT FOCUS RING FOR SEMICONDUCTOR WAFER PROCESSING INPLASMA REACTOR
von
YOSHIAKI TANASE
,
ROBAATO II RAIAN
,
GURAHAMU DABURIYUU HIRUZU
,
YUU-JIA SUU
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Patent
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Technical Subjects Covered By Former Uspc Cross-Reference Art Collections [Xracs] And Digests
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Non-Mechanical Removal Of Metallic Material From Surface
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Plasma Technique
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Esp@Cenet
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