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Area-selective chemical vapor deposition of Co for Cu capping layer
Veröffentlicht in Current applied physics
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Formation of Ni silicide from atomic layer deposited Ni
Veröffentlicht in Current applied physics
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Atomic Layer Deposition of Co Using N2∕H2 Plasma as a Reactant
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Thermal atomic layer deposition of metallic Ru using H2O as a reactant
Veröffentlicht in Applied surface science
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