Suchergebnisse - YAMASHITA MUTSUO

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Effect of Substrate Bias Voltage on the Thermal Stability of Cu/Ta/Si Structures Deposited by Ion Beam Deposition von Lim, Jae-Won, Mimura, Kouji, Miyake, Kiyoshi, Yamashita, Mutsuo, Isshiki, Minoru

Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics

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2

Sputter type HF ion source for ion beam deposition apparatus von YAMASHITA, M

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The effect of a magnetic field on the plasma characteristics of a sputter-type hf ion source von Yamashita, Mutsuo

Veröffentlicht in Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms

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4

Ion bombardment-type high frequency metal ion source for compact ion beam deposition apparatus von Yamashita, Mutsuo

Veröffentlicht in Review of Scientific Instruments

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5

Characteristics of a Modified High Frequency Ion Source von Yamashita, Mutsuo

Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics

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6

Electrical Conduction in Ti-TiO2-Au Thin-Film Device von TSUKIDE, Osamu, YAMASHITA, Mutsuo, INOUE, Tohru

Veröffentlicht in SHINKU

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7

THREE-DIMENSIONAL SPUTTER FILM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD von YAMASHITA MUTSUO

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8

Trial Production of Coil-Target-Type High-Frequency Sputter Apparatus von YAMASHITA, Mutsuo, KAGAMI, Jhoji

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9

SPUTTERING APPARATUS von YAMASHITA MUTSUO

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Production of TiN Films by L-Coupled Type HF Sputtering System von YAMASHITA, Mutsuo, YAMANISHI, Hitoshi

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Characteristics of the Sputtering Apparatus with a HF Coil von YAMASHITA, Mutsuo

Veröffentlicht in Shinku

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Sputtering System by RF Electrodeless Discharge (III) von YAMASHITA, Mutsuo

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DRAWING RETRIEVING DEVICE von YAMASHITA MUTSUO

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PLASMA-GENERATING DEVICE von KO MINAMI, YAMASHITA MUTSUO, HABA HOKI

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Some progressive Education on the Science and Technology for Elementary School by Professional Engineers von YAMASHITA, Mutsuo, MIYOSHI, Masao, 俊雄, 保坂

Veröffentlicht in JSSE Research Report

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16

Energy Control of Sputtered Particles von YAMASHITA, Mutsuo, YAMANISHI, Hitoshi

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17

THREE-DIMENSIONAL SPUTTER FILM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD von KAMEI RYUICHIRO, YAMASHITA MUTSUO, KURAHASHI RYUZO, HIRAO TAKASHI

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18

THREE-DIMENSIONAL HIGH-FREQUENCY PLASMA CVD APPARATUS AND THREE-DIMENSIONAL HIGH-FREQUENCY PLASMA CVD METHOD von KAMEI RYUICHIRO, YAMASHITA MUTSUO, KURAHASHI RYUZO, HIRAO TAKASHI

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19

Sputtering System by RF Electrodeless Discharge (2) von YAMASHITA, Mutsuo, OGAWA, Kiyoshi

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20

Trial Production of the Deposition Device with Heating System of Ion Bombardment von TSUKIDE, Osamu, YAMASHITA, Mutsuo

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THREE-DIMENSIONAL SPUTTER FILM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD von YAMASHITA MUTSUO

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PLASMA-GENERATING DEVICE von KO MINAMI, YAMASHITA MUTSUO, HABA HOKI

Some progressive Education on the Science and Technology for Elementary School by Professional Engineers von YAMASHITA, Mutsuo, MIYOSHI, Masao, 俊雄, 保坂

Energy Control of Sputtered Particles von YAMASHITA, Mutsuo, YAMANISHI, Hitoshi

THREE-DIMENSIONAL SPUTTER FILM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD von KAMEI RYUICHIRO, YAMASHITA MUTSUO, KURAHASHI RYUZO, HIRAO TAKASHI

THREE-DIMENSIONAL HIGH-FREQUENCY PLASMA CVD APPARATUS AND THREE-DIMENSIONAL HIGH-FREQUENCY PLASMA CVD METHOD von KAMEI RYUICHIRO, YAMASHITA MUTSUO, KURAHASHI RYUZO, HIRAO TAKASHI

Sputtering System by RF Electrodeless Discharge (2) von YAMASHITA, Mutsuo, OGAWA, Kiyoshi

Trial Production of the Deposition Device with Heating System of Ion Bombardment von TSUKIDE, Osamu, YAMASHITA, Mutsuo

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