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Wafer2Wafer Etch Monitor via In Situ QCLAS
Veröffentlicht in IEEE transactions on plasma science
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TaN metal gate damage during high-k (Al 2O 3) high-temperature etch
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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CCMV-Based Enzymatic Nanoreactors
Veröffentlicht in Virus-Derived Nanoparticles for Advanced Technologies
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