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    The Characterization of KrF Photoresists and the Effect of Different Chromophore Bulkiness on Line Edge Roughness (LER) for Submicron Technology

    The Characterization of KrF Photoresists and the Effect of Different Chromophore Bulkiness on Line Edge Roughness (LER) for Submicron Technology von Bakri, A.Y.M., Manaf, M.J., Wahab, K.I.A., Bin Ahmad, I.

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