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    Nitrogen dilution effects on structural and electrical properties of hot-wire-deposited a-SiN:H films for deep-sub-micron CMOS technologies

    Nitrogen dilution effects on structural and electrical properties of hot-wire-deposited a-SiN:H films for deep-sub-micron CMOS technologies von Waghmare, Parag C., Patil, Samadhan B., Kumbhar, Alka A., Rao, Ramgopal, Dusane, R.O.

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    Ultra-thin silicon nitride by hot wire chemical vapor deposition (HWCVD) for deep sub-micron CMOS technologies

    Ultra-thin silicon nitride by hot wire chemical vapor deposition (HWCVD) for deep sub-micron CMOS technologies von Waghmare, Parag C., Patil, Samadhan B., Kumbhar, Alka, Dusane, R.O., Rao, V.Ramgopal

    Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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