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Deposited inter-polysilicon dielectrics for nonvolatile memories
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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A Physical Model for Dishing during Metal CMP
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Conduction and trapping mechanisms in SiO2 films grown near room temperature by multipolar electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition
Veröffentlicht in Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena
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W-CMP for sub-micron inverse metallisation
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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