Oxide–nitride–oxide layer optimisation for reliable embedded SONOS memories von van Schaijk, Rob, van Duuren, Michiel, Yuet Mei, Wan, van der Jeugd, Kees, Rothschild, Aude, Demand, Marc

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Exoelectron emission from silicon nanocrystals von Rosenman, Gil, Aronov, Daniel, Molotskii, Michael, Roizin, Yakov, Heiman, Alexey, Mei, Wan Yuet, de Blank, Rene

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High stress nitride film and method for formation thereof von Wan, Yuet Mei, de Blank, René, Maes, Jan Willem

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Method of fabricating silicon nitride nanodots von WAN YUET MEI, BEULENS JACOBUS JOHANNES

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Method of fabricating silicon nitride nanodots von Beulens, Jacobus Johannes, Wan, Yuet Mei

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Method of fabricating silicon nitride nanodots von WAN YUET MEI, BEULENS JACOBUS JOHANNES

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High stress nitride film and method for formation thereof von WAN YUET MEI, DE BLANK RENE, MAES JAN WILLEM

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Remote plasma activated nitridation von Swerts, Johan, De Witte, Hilde, Maes, Jan Willem, Pomarede, Christophe F, Haverkort, Ruben, Wan, Yuet Mei, De Blank, Marinus J, Van Der Jeugd, Cornelius A, Beulens, Jacobus Johannes

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Remote plasma activated nitridation von SWERTS JOHAN, HAVERKORT RUBEN, WAN YUET MEI, VAN DER JEUGD CORNELIUS A, DE BLANK MARINUS J, POMAREDE CHRISTOPHE F, BEULENS JACOBUS JOHANNES, DE WITTE HILDE, MAES JAN WILLEM

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LOW TEMPERATURE SILICON COMPOUND DEPOSITION von WERKHOVEN CHRISTIAN J, HAVERKORT RUBEN, TODD MICHAEL A, WEEKS KEITH D, WAN YUET MEI, DE BLANK MARINUS J, POMAREDE CHRISTOPHE F, BEULENS JACOBUS JOHANNES

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LOW TEMPERATURE SILICON COMPOUND DEPOSITION von TODD, MICHAEL, A, BEULENS, JACOBUS, JOHANNES, WEEKS, KEITH, D, HAVERKORT, RUBEN, DE BLANK, MARINUS, J, POMAREDE, CHRISTOPHE, F, WAN, YUET, MEI, WERKHOVEN, CHRISTIAN, J

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LOW TEMPERATURE SILICON COMPOUND DEPOSITION von TODD, MICHAEL, A, BEULENS, JACOBUS, JOHANNES, WEEKS, KEITH, D, HAVERKORT, RUBEN, DE BLANK, MARINUS, J, POMAREDE, CHRISTOPHE, F, WAN, YUET, MEI, WERKHOVEN, CHRISTIAN, J

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Low temperature silicon compound deposition von Haverkort, Ruben, Wan, Yuet Mei, De Blank, Marinus J, van der Jeugd, Cornelius A, Beulens, Jacobus Johannes, Todd, Michael A, Weeks, Keith D, Werkhoven, Christian J, Pomarede, Christophe F

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Low temperature silicon compound deposition von WERKHOVEN CHRISTIAN J, HAVERKORT RUBEN, TODD MICHAEL A, WEEKS KEITH D, WAN YUET MEI, VAN DER JEUGD CORNELIUS A, DE BLANK MARINUS J, POMAREDE CHRISTOPHE F, BEULENS JACOBUS JOHANNES

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REMOTE PLASMA ACTIVATED NITRIDATION von HILDE DE WITTE, JOHAN SWERTS, RUBEN HAVERKORT, JAN WILLEM MAES, CORNELIUS A. VAN DER JEUGD, WAN YUET MEI, MARINUS J. DE BLANK, JACOBUS JOHANNES BEULENS, CHRISTOPHE POMAREDE

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REMOTE PLASMA ACTIVATED NITRIDATION von JOHAN SWART, HILDE DE WITTE, POMAREDE CHRISTOPHE, HAVERKORT RUBEN, WAN YUET MEI, VAN DER JEUGD CORNELIUS A, DE BLANK MARINUS J, BEULENS JACOBUS JOHANNES, MAES JAN WILLEM

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Performance and reliability features of advanced nonvolatile memories based on discrete traps (silicon nanocrystals, SONOS) von Barbara De Salvo, Gerardi, C., van Schaijk, R., Lombardo, S.A., Corso, D., Plantamura, C., Serafino, S., Ammendola, G., van Duuren, M., Goarin, P., Mei, W.Y., van der Jeugd, K., Baron, T., Gely, M., Mur, P., Deleonibus, S.

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Remote plasma activated nitridation von SWERTS, JOHAN, POMAREDE, CHRISTOPHE, WITTE, HILDE DE, MAES, JAN WILLEM, HAVERKORT, RUBEN, BEULENS, JACOBUS JOHANNES, DE BLANK, MARINUS J, WAN, YUET MEI, VAN DER JEUGD, CORNELIUS A

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p-Cresol affects reactive oxygen species generation, cell cycle arrest, cytotoxicity and inflammation/atherosclerosis-related modulators production in endothelial cells and mononuc... von Chang, Mei-Chi, Chang, Hsiao-Hua, Chan, Chiu-Po, Yeung, Sin-Yuet, Hsien, Hsiang-Chi, Lin, Bor-Ru, Yeh, Chien-Yang, Tseng, Wan-Yu, Tseng, Shui-Kuan, Jeng, Jiiang-Huei

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Cracked teeth: Distribution and survival at 6 months, 1 year and 2 years after treatment von Liao, Wan-Chuen, Tsai, Yi-Ling, Chen, Kuan-Liang, Blicher, Brooke, Chang, Shu-Hui, Yeung, Sin-Yuet, Chang, Mei-Chi, Jeng, Jiiang-Huei

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