-
1
On the homogeneity of sputter-deposited ITO films Part I. Stress and microstructure
Veröffentlicht in Thin solid films
VolltextArtikel -
2
-
3
The active dopant concentration in ion implanted indium tin oxide thin films
Veröffentlicht in Journal of applied physics
VolltextArtikel -
4
-
5
On the homogeneity of sputter-deposited ITO films Part II. Etching behaviour
Veröffentlicht in Thin solid films
VolltextArtikel -
6
-
7
On the homogeneity of sputter-deposited ITO films. I: Stress and microstructure
Veröffentlicht in Thin solid films
VolltextArtikel -
8
On the homogeneity of sputter-deposited ITO films. II: Etching behaviour
Veröffentlicht in Thin solid films
VolltextArtikel -
9
-
10
-
11
-
12
-
13
-
14
-
15
Transports: la Suisse et l'Europe
Veröffentlicht in Ingénieurs et architectes suisses
VolltextArtikel -
16