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Stopping characteristics of boron and indium ions in silicon
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Reactive ion etching of silicon using low-power plasma etcher
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Automated unit of the chemical wet etching
Veröffentlicht in IOP conference series. Materials Science and Engineering
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Analytical model of plasma-chemical etching in planar reactor
Veröffentlicht in Journal of physics. Conference series
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Researching of Dielectric Membrane Films Obtained by Reactive Magnetron Sputtering
Veröffentlicht in Physics procedia
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The Soviet union as the Pilot economic Laboratory of the world
Veröffentlicht in Mir novoj èkonomiki (Online)
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Visual Experiment Results (About the 2021 Nobel Prize in Economic Sciences)
Veröffentlicht in Mir novoj èkonomiki (Online)
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