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Single-mode waveguides for GRAVITY
Veröffentlicht in Astronomy and astrophysics (Berlin)
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Three dimensional on 300 mm wafer scale nano imprint lithography processes
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Three dimensional on 300mm wafer scale nano imprint lithography processes
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Bonded planar double-metal-gate NMOS transistors down to 10 nm
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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High mobility CMOS: First demonstration of planar GeOI p-FETs with SOI n-FETs
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Hybrid high resolution lithography (e-beam/deep ultraviolet) and etch process for the fabrication of stacked nanowire metal oxide semiconductor field effect transistors
Veröffentlicht in Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena
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