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An ion-source of ceramic construction suitable for ion-implantation
Veröffentlicht in Vacuum
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Effect of ion beam irradiation on metal silicon junctions
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Fluorine-implanted bismuth oxide superconductors
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Properties of the fluorine-implanted Si-SiO2 system
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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On the role of fluorine in BF2+ implanted silicon
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Some studies on antimony implanted silicon
Veröffentlicht in Microelectronics and reliability
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Effect of argon implantation on antimony implanted silicon
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Ion‐implantation system for near surface studies
Veröffentlicht in Review of scientific instruments
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Differential sheet resistivity of mixed implanted (phosphorus + boron) silicon
Veröffentlicht in Microelectronics
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Fabrication of an n-MOS custom “subscriber chip” for a telephone exchange
Veröffentlicht in Microelectronics
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