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XPS investigation of the ALD Al2O3/HgCdTe heterointerface
Veröffentlicht in Semiconductor science and technology
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High-resistance thermally stable silicon layers produced by the CO+ ion implantation
Veröffentlicht in Materials letters
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XPS investigation of the ALD Al 2 O 3 /HgCdTe heterointerface
Veröffentlicht in Semiconductor science and technology
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