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Modeling of ultrathin double-gate nMOS/SOI transistors
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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Modified Boltzmann boundary conditions in junction theory
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Moderate inversion model of ultrathin double-gate nMOS/SOI transistors
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Subthreshold slope of long-channel, accumulation-mode p-channel SOI MOSFETs
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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An analytical model for GAA transistors
Veröffentlicht in ESSDERC '91: 21st European Solid State Device Research Conference
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Characteristics of nMOS/GAA (Gate-All-Around) transistors near threshold
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Measurement of intrinsic gate capacitances of SOI MOSFET's
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Space-charge recombination current in a diffused p-n junction
Veröffentlicht in Physica status solidi. A, Applied research
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RBS study of the effect of arsenic and phosphorus interfacial segregation upon the sintering of contacts between implanted polycrystalline silicon and aluminum: Silicon(1%)
Veröffentlicht in Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms
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