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Blistering mechanisms of atomic-layer-deposited AlN and Al2O3 films
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Void formation and its impact on Cu Sn intermetallic compound formation
Veröffentlicht in Journal of alloys and compounds
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Chemically Stable Atomic-Layer-Deposited Al2O3 Films for Processability
Veröffentlicht in ACS omega
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Solid-state reactions between Cu(Ni) alloys and Sn
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Interfacial void segregation of Cl in Cu-Sn micro-connects
Veröffentlicht in Electronic materials letters
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Achieving low-temperature wafer level bonding with Cu-Sn-In ternary at 150 °C
Veröffentlicht in Scripta materialia
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Void formation and its impact on CuSn intermetallic compound formation
Veröffentlicht in Journal of alloys and compounds
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