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The mobility of Na+, Li+, and K+ ions in thermally grown SiO2 films
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Instability mechanism in hydrogenated amorphous silicon thin-film transistors
Veröffentlicht in Applied physics letters
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A model for the electrical conduction in polysilicon oxide
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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Donor generation in monocrystalline silicon by halogen implantation
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Effects of fluorine implantation on the kinetics of dry oxidation of silicon
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Influence of anneal temperature on the mobile ion concentration in MOS structures
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Density of oxidation-induced stacking faults in damaged silicon
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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An empirical model for early resistance changes due to electromigration
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Mean free path of hot electrons at the surface of boron-doped silicon
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Avalanche-injected electron currents in SiO2 at high injection densities
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Nonavalanche injection of hot carriers into SiO2
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Drift of the breakdown voltage in highly doped planar junctions
Veröffentlicht in Microelectronics and reliability
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