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Composition and morphology of fluorinated anodic oxides on InAs (1 1 1)A surface
Veröffentlicht in Applied surface science
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Chromium mask for plasma-chemical etching of [Al.sub.x][Ga.sub.1 - x]N layers
Veröffentlicht in Technical physics
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Formation of anodic layers on InAsIII. Study of the chemical composition
Veröffentlicht in Semiconductors (Woodbury, N.Y.)
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