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Analysis of the Features of Hot-Carrier Degradation in FinFETs
Veröffentlicht in Semiconductors (Woodbury, N.Y.)
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Low-leakage MIS structures with 1.5-6 nm CaF2 insulating layer on Si(111)
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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High insulating quality CaF2 pseudomorphic films on Si(111)
Veröffentlicht in Applied physics letters
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TCAD simulation of tunneling leakage current in CaF2/Si(111) MIS structures
Veröffentlicht in Current applied physics
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