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    Characteristics of MOS diodes fabricated using sputter-deposited W or Cu/W films

    Characteristics of MOS diodes fabricated using sputter-deposited W or Cu/W films von Tsevas, Spiros, Vasilopoulou, Maria, Kouvatsos, Dimitrios N., Speliotis, Thanassis, Niarchos, Dimitris

    Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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