Simulation tool for proximity effects in high aspect ratio UV-lithographic patterning von Triltsch, U., Feldmann, M., Boese, C., Büttgenbach, S.

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Modular software system for computer aided design of microsystems von STRAUBE, D, TRILTSCH, U, FRANKE, H.-J, BÜTTGENBACH, S

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Optimization of lithographic masks using genetic algorithms von Triltsch, U., Phataralaoha, A., Büttgenbach, S., Straube, D., Franke, H. -J.

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Buchbesprechung: Mikrosystemtechnik für Ingenieure, 3. Auflage. Von W. Menz, J. Mohr, O. Paul von Triltsch, U.

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Learning Environment for Digital Twin Technologies and M2M Communication von Triltsch, U., Brüggemann, H.

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Buchbesprechung: Mikrosystemtechnik für Ingenieure, 3. Auflage. Von W. Menz, J. Mohr, O. Paul von Triltsch, U.

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Next generation of TCAD environments for MEMS design von Triltsch, U., Buttgenbach, S.

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GETLAUS01—the latest version of a model for simulating aphid population dynamics in dependence on antagonists in wheat von Gosselke, U., Triltsch, H., Roßberg, D., Freier, B.

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Bewertung von Nützlingsleistungen in Weizenfeldern mit Hilfe von Computersimulationen von Freier, B., Roßberg, D., Gosselke, U., Triltsch, H.

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Bewertung von Nützlingsleistungen in Weizenfeldern mit Hilfe von Computersimulationen von FREIER, B, ROSSBERG, D, GOSSELKE, U, TRILTSCH, H

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Evaluation of beneficial effects in wheat fields by using computer simulation von Freier, B, Rossberg, D, Gosselke, U, Triltsch, H

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Szolnok von K u. k. militär-geographisches Institut, Military geographic institute

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Entwicklung modular aufgebauter dynamischer mathematischer Modelle zur Charakterisierung und Quantifizierung von Prozessen in agrarischen Ökosystemen auf homogenen Arealen von Claus, S., Wernecke, P., Franko, U., Oelschlägel, B., Pigla, U., Müller, J., Freier, B., Triltsch, H., Rossberg, D., Kreuter, T., Wetzel, T., Dubsky, G.

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