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A study of imprint and etching behavior on fused silica of a new tailored resist mr-NIL213FC for soft UV-NIL
von
Si, Shuhao
,
Weigel, C.
,
Messerschmidt, M.
,
Thesen, M.W.
,
Sinzinger, S.
,
Strehle, S.
Veröffentlicht in
Micro and Nano Engineering
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2
Photo-curable resists for inkjet dispensing applied in large area and high throughput roll-to-roll nanoimprint processes
von
THESEN, M. W
,
RUTTLOFF, S
,
LIMBERG, R. P. F
,
VOGLER, M
,
NEES, D
,
GRÜTZNER, G
Veröffentlicht in
Microelectronic engineering
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Ingentaconnect
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Sciencedirect Journals (5 Years Ago - Present)
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Sd College Edition Journals Collection - Physical Sciences [Scps]
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