Long-term annealing for surface waviness improvement of ultra-lightweight X-ray optics von Ishi, Daiki, Ezoe, Yuichiro, Ishikawa, Kumi, Numazawa, Masaki, Takeuchi, Kazuma, Terada, Masaru, Fujitani, Maiko, Itoyama, Takahito, Otsubo, Ryota, Fukushima, Aoto, Ohashi, Takaya, Kanamori, Yoshiaki, Mitsuda, Kazuhisa

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Pt atomic layer deposition for silicon X-ray micropore optics von Takeuchi, Kazuma, Yuichiro, Ezoe, Kumi, Ishikawa, Masaki, Numazawa, Masaru, Terada, Daiki, Ishi, Maiko, Fujitani, Takahito, Itoyama, Ryota, Otsubo, Aoto, Fukushima, J., Sowa Mark, Takaya, Ohashi, Kazuhisa, Mitsuda

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原子層堆積法によるシリコン X 線微細孔工学系の Pt 膜付け加工 von 武内, 数馬, 江副, 祐一郎, 石川, 久美, 沼澤, 正樹, 寺田, 優, 伊師, 大貴, 藤谷, 麻衣子, 糸山, 隆仁, 大坪, 亮太, 福島, 碧都, J., Sowa Mark, 大橋, 隆哉, 満田, 和久

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超軽量X線光学系の表面粗さ改善に向けた長時間アニール von 伊師, 大貴, 江副, 祐一郎, 石川, 久美, 沼澤, 正樹, 武内, 数馬, 寺田, 優, 藤谷, 麻衣子, 糸山, 隆仁, 大坪, 亮太, 福島, 碧斗, 大橋, 隆哉, 金森, 義明, 満田, 和久

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