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Method for improving photoetching mark of double patterning process
von
LIANG SHIYUAN
,
TIAN FANHUAN
,
QUAN BINGREN
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2
Photoresist coating device and photoresist coating method
von
LIN ZHONGJI
,
ZHANG CHENGGEN
,
TIAN FANHUAN
,
JIN ZAIZHI
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3
Improved lithographic method
von
HE XIAOBIN
,
LI JUNFENG
,
WANG WENWU
,
YANG TAO
,
LIANG SHIYUAN
,
TIAN FANHUAN
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4
METHOD OF FORMING MULTIPLE PATTERNED LAYERS ON WAFER AND EXPOSURE APPARATUS THEREOF
von
LIANG SHIYUAN
,
TIAN FANHUAN
,
JIN SHUAIJIONG
,
LI QIHENG
,
QUAN BINGREN
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5
Method for forming semiconductor device pattern
von
HE XIAOBIN
,
DING MINGZHENG
,
LI JUNFENG
,
WANG WENWU
,
YANG TAO
,
LIANG SHIYUAN
,
TIAN FANHUAN
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6
Overlay mark and method for measuring overlay error by using overlay mark
von
HE XIAOBIN
,
DING MINGZHENG
,
LI JUNFENG
,
WANG WENWU
,
YANG TAO
,
LIANG SHIYUAN
,
TIAN FANHUAN
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Patent
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7
Exposure method with double composition
von
HE XIAOBIN
,
LI JUNFENG
,
LIANG XIANSHI
,
WANG WENWU
,
LIU QIANG
,
YANG TAO
,
LIANG SHIYUAN
,
TIAN FANHUAN
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Patent
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8
Intelligent vehicle capable of automatically spraying traffic marking and control method thereof
von
ZHANG SHIQIANG
,
ZHAO PENG
,
SUN LIJING
,
BAO YONGLIN
,
LI YUAN
,
LI BIN
,
GAO XIN
,
MENG FANHUAN
,
YANG LI
,
YANG GUOQUAN
,
TU CHAOHUI
,
YANG XUESONG
,
GAO YUZHI
,
DUAN LISHAN
,
HUO QING
,
TIAN BINGQI
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