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    Generation of a boron ion beam in a modified ion source for semiconductor applications

    Generation of a boron ion beam in a modified ion source for semiconductor applications von Gushenets, V. I., Bugaev, A. S., Oks, E. M., Yushkov, G. Yu, Hershcovitch, Ady, Johnson, B. M., Kulevoy, T. V., Poole, H. J., Swarovsky, A. Ya


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