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Properties of an ECWR Discharge at Low Pressures
Veröffentlicht in IEEE transactions on plasma science
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A plasma chemistry model for H2/SiH4 mixtures used in PECVD processes
Veröffentlicht in Physica scripta
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A plasma chemistry model for H 2 /SiH 4 mixtures used in PECVD processes
Veröffentlicht in Physica scripta
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Giant Kovacs-Like Memory Effect for Active Particles
Veröffentlicht in Physical review letters
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