Suchergebnisse - Suh, Bong Seok

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Barrier properties and failure mechanism of Ta–Si–N thin films for Cu interconnection von Lee, Yoon-Jik, Suh, Bong-Seok, Kwon, Myoung Seok, Park, Chong-Ook

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Structural and chemical stability of Ta–Si–N thin film between Si and Cu von Lee, Yoon-Jik, Suh, Bong-Seok, Rha, Sa-Kyun, Park, Chong-Ook

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Surface hardening of AISI 316L stainless steel using plasma carburizing von Suh, Bong-Seok, Lee, Won-Jong

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Co-sputter deposited Ta–Si diffusion barrier between Si and Cu: the effects of Si content on the barrier property von Lee, Yoon-Jik, Suh, Bong-Seok, Park, Chong-Ook

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Crystallization of amorphous WNx films von Suh, Bong-Seok, Cho, Heung-Kuon, Lee, Yoon-Jik, Lee, Won-Jun, Park, Chong-Ook

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Properties of reactively sputtered WN x as Cu diffusion barrier von Suh, Bong-Seok, Lee, Yoon-Jik, Hwang, Jeong-Sug, Park, Chong-Ook

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Semiconductor device von Jeong, Soo Jin, Bae, Dong Il, Song, Seung Min, Yang, Jung Gil, Suh, Bong Seok

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Properties of reactively sputtered WNx as Cu diffusion barrier von SUH, B.-S, LEE, Y.-J, HWANG, J.-S, PARK, C.-O

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Semiconductor device von Jeong, Soo Jin, Bae, Dong Il, Song, Seung Min, Yang, Jung Gil, Suh, Bong Seok

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SEMICONDUCTOR DEVICE von SUH, Bong Seok, BAE, Dong Il, SONG, Seung Min, YANG, Jung Gil, JEONG, Soo Jin

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Semiconductor device von Jeong, Soo Jin, Bae, Dong Il, Song, Seung Min, Yang, Jung Gil, Suh, Bong Seok

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SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME von SUH, Bong Seok, JUNG, Joo Ho, YOO, Sang Min, LEE, Sung Moon, KIM, Ju Youn, NA, Hyung Joo, HWANG, Eui Chul

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SEMICONDUCTOR DEVICE von SUH, Bong Seok, BAE, Dong Il, SONG, Seung Min, YANG, Jung Gil, JEONG, Soo Jin

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Semiconductor device and method for fabricating the same von Jung, Joo Ho, Kim, Ju Youn, Lee, Sung Moon, Na, Hyung Joo, Hwang, Eui Chui, Yoo, Sang Min, Suh, Bong Seok

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Semiconductor device von Jeong, Soo Jin, Bae, Dong Il, Song, Seung Min, Yang, Jung Gil, Suh, Bong Seok

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Integration and reliability of a noble TiZr/TiZrN alloy barrier for Cu/low-k interconnects von Bong-Seok Suh, Seung-Man Choi, Youngjin Wee, Jung-Eun Lee, Junho Lee, Sun-Jung Lee, Soo-Geun Lee, Hongjae Shin, Nae-In Lee, Ho-Kyu Kang, Kwangpyuk Suh

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Method for fabricating a semiconductor device including a gate structure with an inclined side wall von Hwang, Eui Chul, Jung, Joo Ho, Kim, Ju Youn, Lee, Sung Moon, Na, Hyung Joo, Yoo, Sang Min, Suh, Bong Seok

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SEMICONDUCTOR DEVICE von SUH, Bong Seok, BAE, Dong Il, SONG, Seung Min, YANG, Jung Gil, JEONG, Soo Jin

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SEMICONDUCTOR DEVICE von SUH, Bong Seok, BAE, Dong Il, SONG, Seung Min, YANG, Jung Gil, JEONG, Soo Jin

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SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME von SUH, Bong Seok, JUNG, Joo Ho, YOO, Sang Min, LEE, Sung Moon, KIM, Ju Youn, NA, Hyung Joo, HWANG, Eui Chul

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Semiconductor device von Jeong, Soo Jin, Bae, Dong Il, Song, Seung Min, Yang, Jung Gil, Suh, Bong Seok

Properties of reactively sputtered WNx as Cu diffusion barrier von SUH, B.-S, LEE, Y.-J, HWANG, J.-S, PARK, C.-O

Semiconductor device von Jeong, Soo Jin, Bae, Dong Il, Song, Seung Min, Yang, Jung Gil, Suh, Bong Seok

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Semiconductor device von Jeong, Soo Jin, Bae, Dong Il, Song, Seung Min, Yang, Jung Gil, Suh, Bong Seok

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Integration and reliability of a noble TiZr/TiZrN alloy barrier for Cu/low-k interconnects von Bong-Seok Suh, Seung-Man Choi, Youngjin Wee, Jung-Eun Lee, Junho Lee, Sun-Jung Lee, Soo-Geun Lee, Hongjae Shin, Nae-In Lee, Ho-Kyu Kang, Kwangpyuk Suh

Method for fabricating a semiconductor device including a gate structure with an inclined side wall von Hwang, Eui Chul, Jung, Joo Ho, Kim, Ju Youn, Lee, Sung Moon, Na, Hyung Joo, Yoo, Sang Min, Suh, Bong Seok

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