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Low dielectric constant a -SiOC:H films as copper diffusion barrier
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Stable and unstable growth in molecular beam epitaxy
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Large scale surface structure formed during GaAs (001) homoepitaxy
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SURFACE EVOLUTION DURING MOLECULAR-BEAM EPITAXY DEPOSITION OF GAAS
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Mechanism for disorder on GaAs(001)-(2 x 4) surfaces
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Via resistance reduction using cool PVD-Ta processing
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A robust 45 nm gate-length CMOSFET for 90 nm Hi-speed technology
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An STM study of molecular-beam epitaxy growth of GaAs
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The nature of island formation in the homoepitaxial growth of GaAs(110)
Veröffentlicht in Surface science
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