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    Iron contamination in silicon wafers measured with the pulsed MOS capacitor generation lifetime technique

    Iron contamination in silicon wafers measured with the pulsed MOS capacitor generation lifetime technique von Suat-Eng Tan, Schroder, D.K., Kohno, M., Miyazaki, M.


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    Authentic assessment for Fundamental Electronics

    Authentic assessment for Fundamental Electronics von Suat-Eng Tan

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    Frequency domain lifetime characterization

    Frequency domain lifetime characterization von Schroder, D.K., Park, J.-E., Tan, S.-E., Choi, B.D., Kishino, S., Yoshida, H.


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