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Large area VHF plasma polymerisation electrode system
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
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High temperature line electrode assembly for continuous substrate flow VHF PECVD
Veröffentlicht in Thin solid films
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Very high frequency plasma CVD of silicon oxide
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
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Oxygen-rich phase segregation in PECVD a-SiOx:H semi-insulators
Veröffentlicht in Journal of non-crystalline solids
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A new helix plasma source for VHF PECVD of a-Si:H
Veröffentlicht in Journal of non-crystalline solids
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Plasmachemische Gasphasenabscheidung – eine Technologie zur Deposition organischer und anorganischer Schichten. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition – a Thin Film Technique fo...
Veröffentlicht in Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten
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Plasmachemische Gasphasenabscheidung - eine Technologie zur Deposition organischer und anorganischer Schichten. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition - a Thin Film Technique fo...
Veröffentlicht in Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten
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Oxygen-rich phase segregation in PECVD a-SiO x:H semi-insulators
Veröffentlicht in Journal of non-crystalline solids
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